水處理設備-16噸18兆半導體行業(yè)超純水設備
純水設備核心技術采用單級或雙級反滲透、EDI等最新工藝，比較有針對性地設計出成套高品質純水處置工藝，以滿足藥廠、醫(yī)院以及實驗室診斷試劑的純化水或蒸餾水的制取用水要求，整個系統(tǒng)都由SUS304L或SUS316L全不銹鋼材質組合而成，而且在用水點之前都必需裝備紫外線及臭氧殺菌裝置也可采用巴氏消毒。
EDI超純水設備又稱電去離子設備，一般用于電子光學行業(yè)生產用水，如半導體、反滲透設備集成電路芯片及封裝用水、電子試劑用水,電子管涂敷配液用水、液晶顯示器屏面清洗用水、硅片清洗用水、光學鏡片清洗用水、各種高精度線路板、光電器件、各種電子器件、微電子工業(yè)、大規(guī)模集成電路等生產用水需求．
服務內容：
包括設備工藝設計、系統(tǒng)制造、裝置、現(xiàn)場裝置、系統(tǒng)試裝調整、設備保修、及售后服務等。
設計參考規(guī)范：
1建設方提供的相關技術資料，技術說明，及基本技術要求；
2國家現(xiàn)行有關設計規(guī)范、施工及驗收規(guī)范、質量評定規(guī)范；
3反滲透系統(tǒng)設計依據美國
4ZBG98020-90水處置設備系列型譜》
5電力裝置的繼電維護和自動裝置設計規(guī)范(GB50062-1992
6工業(yè)與民用電力裝置的接地設計規(guī)范(GBJ65-1983
7GB/T11446.1-1997國家電子級超純水純水設備規(guī)范Ⅰ級≥18MΩ/CM25℃）95％以上時間；
環(huán)保電子行業(yè)EDI超純水設備簡述：
既將水中的導電介質幾乎完全去除，又將水中不離解的膠體物質、氣體及有機物均去除至很低程度的水稱為超純水,國電子工業(yè)部將電子工業(yè)用水劃分為四級用水規(guī)范（18MΩ/CM15MΩ/CM12MΩ/CM0.5MΩ/CM科利達環(huán)保采用采用當今最先進的雙級反滲透純化水處置技術＋EDI模塊化設計,原水通過一、二級反滲透系統(tǒng)去除各種鹽份及雜質,再經過EDI系統(tǒng)對反滲透產水高度凈化，使水質提高。水處理設備此電子行業(yè)EDI超純水設備不需要用酸堿進行再生便可連續(xù)制取超純水，系統(tǒng)工藝先進、水質穩(wěn)定、自動化水平高、操作簡便、占地少、運行費用低、綠色環(huán)保、維護方便,處置后可生產出水電阻率可達到18.2兆的超純水。
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