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電子光學(xué)-EDI超純水設(shè)備
EDI超純水設(shè)備又稱電去離子設(shè)備，一般用于電子光學(xué)行業(yè)生產(chǎn)用水，如半導(dǎo)體、反滲透設(shè)備集成電路芯片及封裝用水、電子試劑用水,電子管涂敷配液用水、液晶顯示器屏面清洗用水、硅片清洗用水、光學(xué)鏡片清洗用水、各種高精度線路板、光電器件、各種電子器件、微電子工業(yè)、大規(guī)模集成電路等生產(chǎn)用水需求．
服務(wù)內(nèi)容：
包括設(shè)備工藝設(shè)計、系統(tǒng)制造、裝置、現(xiàn)場裝置、系統(tǒng)試裝調(diào)整、設(shè)備保修、及售后服務(wù)等。
設(shè)計參考規(guī)范：
1建設(shè)方提供的相關(guān)技術(shù)資料，技術(shù)說明，及基本技術(shù)要求；
2國家現(xiàn)行有關(guān)設(shè)計規(guī)范、施工及驗收規(guī)范、質(zhì)量評定規(guī)范；
3反滲透系統(tǒng)設(shè)計依據(jù)美國
4ZBG98020-90水處置設(shè)備系列型譜》
5電力裝置的繼電維護(hù)和自動裝置設(shè)計規(guī)范(GB50062-1992
6工業(yè)與民用電力裝置的接地設(shè)計規(guī)范(GBJ65-1983
7GB/T11446.1-1997國家電子級超純水純水設(shè)備規(guī)范Ⅰ級≥18MΩ/CM25℃）95％以上時間；
環(huán)保電子行業(yè)EDI超純水設(shè)備簡述：
既將水中的導(dǎo)電介質(zhì)幾乎完全去除，又將水中不離解的膠體物質(zhì)、氣體及有機(jī)物均去除至很低程度的水稱為超純水,國電子工業(yè)部將電子工業(yè)用水劃分為四級用水規(guī)范（18MΩ/CM15MΩ/CM12MΩ/CM0.5MΩ/CM科利達(dá)環(huán)保采用采用當(dāng)今最先進(jìn)的雙級反滲透純化水處置技術(shù)＋EDI模塊化設(shè)計,原水通過一、二級反滲透系統(tǒng)去除各種鹽份及雜質(zhì),再經(jīng)過EDI系統(tǒng)對反滲透產(chǎn)水高度凈化，使水質(zhì)提高。水處理設(shè)備此電子行業(yè)EDI超純水設(shè)備不需要用酸堿進(jìn)行再生便可連續(xù)制取超純水，系統(tǒng)工藝先進(jìn)、水質(zhì)穩(wěn)定、自動化水平高、操作簡便、占地少、運(yùn)行費(fèi)用低、綠色環(huán)保、維護(hù)方便,處置后可生產(chǎn)出水電阻率可達(dá)到18.2兆的超純水。
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